一、政策內(nèi)容
(一)核心設(shè)備購買支持。
對集成電路設(shè)計企業(yè)購買核心設(shè)備(實際交易價格20萬元以上),按照購置額最高20%給予補貼,每家企業(yè)每年最高補貼100萬元。
(二) EDA/IP購買支持。
支持集成電路企業(yè)購買IP(來源于IP提供商、EDA供應(yīng)商或者代工廠IP模塊)、EDA工具開展芯片研發(fā),對上一年度購買IP、EDA設(shè)計工具的企業(yè),按照支付費用最高60%給予補貼,每家企業(yè)每年分別給予購買IP、EDA設(shè)計工具補貼最高200萬元。
(三) 流片服務(wù)支持。
對集成電路企業(yè)首次工程流片進行支持,按照上一年度首次工程流片費用(含掩模版制作、流片等)最高10%給予補貼,大于28nm(含)的工藝節(jié)點,每家企業(yè)每年最高補貼150萬元, 7nm(不含)到28nm(不含)節(jié)點,每家企業(yè)每年最高補貼300萬元,小于7nm(含)節(jié)點,每家企業(yè)每年最高補貼500萬元;對使用多項目晶圓(MPW)流片進行研發(fā)的企業(yè),按照上一年度MPW流片費用最高10%給予補貼,大于28nm(含)的工藝節(jié)點,每家企業(yè)每年最高補貼100萬元,7nm(不含)到28nm(不含)節(jié)點,每家企業(yè)每年最高補貼200萬元,小于7nm(含)以下節(jié)點,每家企業(yè)每年最高補貼300萬元。
(四)工程樣片測試驗證支持。
對開展工程樣片的功能、性能、可靠性、兼容性、失效分析等方面的測試驗證及相關(guān)認證的集成電路設(shè)計企業(yè),按照實際發(fā)生費用最高30%給予資助,每家企業(yè)每年最高資助100萬元。
二、資助標準
資助標準以政策內(nèi)容為準,本資助計劃資助金額受區(qū)科技資金年度總額控制。
資助金額以申報主體購買核心設(shè)備,購買IP、EDA工具,流片,開展工程樣片測試驗證及相關(guān)認證等研發(fā)活動上一年度產(chǎn)生的費用為測算依據(jù)。
申報主體購買核心設(shè)備,購買IP、EDA工具,流片,開展工程樣片測試驗證及相關(guān)認證等研發(fā)活動產(chǎn)生的費用以外匯方式結(jié)算的,匯率換算以實際發(fā)生交易日中國人民銀行外匯市場人民幣匯率中間價為準。
三、設(shè)定依據(jù)
(一)《南山區(qū)促進產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展專項資金管理辦法》
(二)《南山區(qū)促進集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展專項扶持措施》
四、申報對象和條件
(一)基本條件
1.申報主體為在南山區(qū)依法經(jīng)營且具有獨立法人資格的企業(yè)。
2.申報主體有不少于20位本科及以上學歷或10位碩士研究生及以上學歷的團隊,且以上成員需由申報主體在南山區(qū)連續(xù)繳納截至申報月滿六個月的社保。
3.申報主體購買核心設(shè)備,購買IP、EDA工具,流片,開展工程樣片測試驗證及相關(guān)認證等研發(fā)活動需在上一年度發(fā)生支付行為。
(二)專項條件
1.核心設(shè)備購買支持
申報主體上一年度購買硬件仿真器、集成電路自動測試機(ATE)、協(xié)議分析儀、邏輯分析儀或網(wǎng)絡(luò)分析儀五類核心設(shè)備并用于芯片研發(fā),且實際交易價格20萬元(含20萬元)以上。
2.EDA/IP購買支持
(1)申報主體購買IP、EDA工具開展芯片研發(fā),且IP來源于IP提供商或者代工廠IP模塊、EDA工具來源于EDA供應(yīng)商;
(2)申報主體應(yīng)為EDA/IP授權(quán)協(xié)議中的知識產(chǎn)權(quán)最終被授予方,且不再轉(zhuǎn)售予第三方;
(3)采購方與被采購方已簽訂轉(zhuǎn)讓或授權(quán)合同并產(chǎn)生支付行為。
3.流片服務(wù)支持
(1)申報主體上一年度進行首次工程流片或使用多項目晶圓(MPW)流片進行研發(fā);
(2)對首次工程流片,1家企業(yè)僅支持1個項目;申報主體選擇首次工程流片和多項目晶圓(MPW)流片其中一項進行申報。
4.工程樣片測試驗證支持
申報主體上一年度就工程樣片的功能、性能、可靠性、兼容性、失效分析等方面進行測試驗證及相關(guān)認證,并實際發(fā)生了相關(guān)費用。
五、資助方式
本資助計劃屬核準類,實行單位申報、材料審核、社會公示、政府決策的原則,采取無償資助方式,受資助項目無需驗收。
六、辦理流程
(一)申報主體登陸“i南山企業(yè)服務(wù)綜合平臺”(https://www.inanshan.org.cn/),網(wǎng)上提交項目申報材料;
(二)區(qū)企業(yè)發(fā)展服務(wù)中心受理申請,對申報材料進行形式性審核,區(qū)科技創(chuàng)新局復(fù)審項目申報材料;
(三)區(qū)科技創(chuàng)新局擬定資助計劃;
(四)區(qū)統(tǒng)計局對申報主體在地統(tǒng)計開展情況進行核查,區(qū)企業(yè)發(fā)展服務(wù)中心組織對申報主體的在地經(jīng)營情況和不良信用記錄等情況進行核查;
(五)區(qū)企業(yè)發(fā)展服務(wù)中心將擬資助項目向社會公示5個工作日,對公示期滿,無有效投訴的項目資助計劃,區(qū)科技創(chuàng)新局再提交專責小組會議進行審議;
(六)經(jīng)審議后,區(qū)科技創(chuàng)新局直接行文下達資金計劃;
(七)區(qū)財政部門及時安排資金,區(qū)科技創(chuàng)新局辦理資金撥付手續(xù)。
七、所需材料
(一)基本材料
1.登錄南山區(qū)產(chǎn)業(yè)發(fā)展綜合服務(wù)平臺(http://sfms.szns.gov.cn/),在線填寫《南山區(qū)促進產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展專項資金——區(qū)科技創(chuàng)新局分項資金促進集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展支持計劃項目申請書》;
2.《南山區(qū)促進產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展專項資金——區(qū)科技創(chuàng)新局分項資金促進集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展支持計劃項目申請書》填表聲明與保證(法定代表人簽字、加蓋單位公章并填寫日期后,原件彩色掃描成PDF文件上傳);
3.統(tǒng)一社會信用代碼證書(原件彩色掃描成PDF文件上傳);
4.法定代表人身份證[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
5.由稅務(wù)部門開具的單位上年度納稅證明(上傳稅務(wù)系統(tǒng)下載帶有稅務(wù)機關(guān)紅色印章的電子版);
6.上年度經(jīng)審計的財務(wù)報告(注冊未滿一年的可提供驗資報告)[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
7.20份本科及以上學歷或10份碩士研究生及以上學歷證明,和以上工作人員由申報主體在南山區(qū)連續(xù)繳納截至申報月滿六個月的社保繳納證明。
8.審核部門認為需要提供的其它材料(原件[或復(fù)印件加蓋單位公章]彩色掃描成PDF文件上傳)。
(二)專項材料
1.核心設(shè)備購買支持
實際購買硬件仿真器、集成電路自動測試機(ATE)、協(xié)議分析儀、邏輯分析儀或網(wǎng)絡(luò)分析儀五類核心設(shè)備的合同、上一年度支付憑證及發(fā)票(境外的提供海關(guān)報關(guān)單)等證明材料[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
2.EDA/IP購買支持
實際購買IP/EDA工具的合同、上一年度支付憑證及發(fā)票(境外的提供相應(yīng)的完稅證明復(fù)印件)等證明材料[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
3.流片服務(wù)支持
申報主體為流片產(chǎn)品的知識產(chǎn)權(quán)所有方的承諾書[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
(1)申請首次工程流片資助的另需提供:企業(yè)該款芯片產(chǎn)品首次流片費用的合同、上一年度支付憑證及發(fā)票(境外加工的提供海關(guān)報關(guān)單或委外加工證明)等證明材料,產(chǎn)品版圖縮略圖A4版彩色、及首次工程流片承諾書[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
(2)申請MPW流片資助的另需提供:企業(yè)參加MPW項目直接費用的合同、上一年度支付憑證及發(fā)票(境外加工的提供海關(guān)報關(guān)單或委外加工證明)等證明材料[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳];
4.工程樣片測試驗證支持
實際工程樣片測試驗證的合同、上一年度支付憑證及發(fā)票(境外的提供海關(guān)報關(guān)單)等證明材料[原件(或復(fù)印件加蓋單位公章)彩色掃描成PDF文件上傳]。
八、名詞解釋
集成電路企業(yè)/集成電路設(shè)計企業(yè):指具有與集成電路設(shè)計相適應(yīng)的軟硬件設(shè)施開發(fā)環(huán)境(如EDA工具、服務(wù)器或工作站等),且發(fā)生流片、工程樣片測試驗證等芯片設(shè)計研發(fā)行為的相關(guān)企業(yè)。
MPW流片:指將多個具有相同工藝的集成電路設(shè)計放在同一晶圓上流片,按面積分擔流片費用,以降低開發(fā)成本和新產(chǎn)品開發(fā)風險。
工程樣片:指經(jīng)過掩膜板流片,達到設(shè)計要求后,可以提供給集成電路系統(tǒng)整機廠商進行芯片性能測試及示范應(yīng)用的芯片產(chǎn)品。
首次流片:指集成電路設(shè)計企業(yè)對其研發(fā)的新型號芯片與芯片制造企業(yè)或代流片企業(yè)開展產(chǎn)品量產(chǎn)前流片,并就對應(yīng)型號芯片首次簽訂流片合同。
九、申報時間和辦理要求
每年安排1-2次集中受理單位申請,具體受理時間以發(fā)布的申報通知為準2024年11月19日-12月2日。
申報主體需按照區(qū)科技創(chuàng)新局相關(guān)通知要求辦理資金撥付手續(xù)。
十、附則
本計劃責任部門為南山區(qū)科技創(chuàng)新局,本操作規(guī)程由其負責解釋,自發(fā)布之日起施行。